「試料研磨用に簡易的な装置がほしい」
「設置場所が限られているため、小型の装置がほしい」
とのご要望から開発いたしました。
装置本体サイズ350mm×220mmとコンパクトなため、設置場所を選ばずAC100Vのみで動作します。
金属部品・ガラス・ウエハなどの加工ができ、研磨プレートを交換することでラッピングのみならず、ポリッシングや簡易的なCMPにも使用できます。
研磨方法も、スラリーによるウエット研磨や研磨シートを用いたドライ研磨にも対応します。
※オプションにて、加工軸数の変更が可能です。
【加工対象】
※省エネ | 環境問題にも考慮し、従来品に比べ1/5の省エネになりました。 | |
※省スペース | 高さ310mmに抑えた卓上型のコンパクトサイズで、限られたスペースに設置可能です。 | |
※低コスト | コストニーズ対応型です。素早いR&Dスケジュールを実現します。 |
小口径ウェーハやチップの簡易的なCMPについてもご相談ください。
※CMP:Chemical Mechanical Polishing 化学的機械研磨
※CMP:Chemical Mechanical Polishing 化学的機械研磨
※ 細かなカスタマイズ(カバー取付等)が可能です。
ラッププレート関係 | |
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ラッププレートの大きさ | 外径Φ150mm |
ラッププレートの回転数 | 0〜80rpm 無段階変速 |
ワーク軸 | |
最大軸数 | 2軸 |
加工対象 | |
最大加工サイズ 丸 | 約φ50mm |
装置重量寸法 | |
寸法 | 幅340mm×奥行220mm×高さ310mm |
重量 | 20kg |