測定方法（平面度）
JIS規格によると、「平面度とは、互いに平行な二つの平面の間の空間を表す」と規定されています。
測定方法（ラップ・ポリッシュにおける）
- (A) オプチカルフラットによる測定
- この原理は、完全に平坦の出た（1/5〜1/10ライトバンド）基準原器（オプチカルフラット）とワークを接触させて、そこに、短波長光源を当てることにより、光学的に干渉縞を発生させ、その干渉縞により平面度を測定するものです。つまり、ワークと光学基準原器（オプチカルフラット）との一種の比較測定となります。
面粗度が鏡面まで出ていない場合は、光学測定できませんので、(C)の方法により、測定します。 - (B) レーザー干渉計による測定
- (A)のオプチカルフラットによる測定では、接触式なので、どうしてもワークにキズが入ります。そこで、非接触式の測定器が開発されて、一般に実用化されています。この原理は、基本的にオプチカルフラットと同じですが、レーザービームを使用し、オプチカルフラットに反射させて、干渉縞を発生させ、それをデジタル処理、又は手動により解析させるものです。（ZYGO等）このシステムは完全に「鏡面でなくても干渉縞を起こすことができる」、「非接触なのでワークにキズが付かない」等のメリットがあります。しかし、レーザーを使用するため、当然、高価であることが欠点です。
- (C) ３点ゲージによる測定
- 正確には光学式干渉計に勝るものはありませんが、ミクロンオーダーであれば、３点ゲージ比較測定で大まかな数字をつかむことができます。
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