フェーシングのみ付属の遊休設備

【問題点】
長期間使用していなかったので、さびや油固着により、オーバーホールが必要。
強制駆動等の高精度加工に不可欠な機構が付いていない。

オシレーション・強制駆動・本体カバーの機能を追加
スピンドル等の機械駆動部の部品交換しオーバーホール

【効果】
ラッピングテーブルの面振れ精度向上
新たな工程への装置導入
新規設備に対するコストメリット

保温性が悪くプロセス温度が安定しないため、応急処置として、社内運用者にてアルミ断熱材を巻いた状態

【問題点】
アルミゆえ、表面温度が上昇するため、安全性に欠け、やけど及び事故の危険性あり
保温効果が悪い

保温性が高く、表面温度が上昇しにくい断熱材にて施工

再配管による流路短縮

【効果】
保温効果UPによる液温の安定化
流路短縮による実質洗浄液量の削減
誤接触によるやけど、事故の防止

ラッピング装置 加圧対応 10-30kg／1軸

【問題点】
製品の小型化・高精度化のため、 0−10kgまでの加圧対応が必要となった

加圧力繰返し精度、安定性を向上させるため、高荷重対応から低荷重対応へ改造

【効果】
新規製品への対応と歩留まりの向上

ローラー受け型ワーク保持式ポリッシング装置

【問題点】
低負荷での加工では安定した加工の実施があったが、高負荷加工において、ワークの自転機構が安定しない。
製品ごとにプロセスの設定が必要となり、人的ミスが生じる環境にあった。

加工対象の変更、高精度化要求により、CMP対応へ変更
電装、プログラムもスイッチ−リレー方式からタッチパネル−プログラム方式へ変更

【効果】
CMP加工により新製品への対応が可能となった

自転式ドレッシンッグ機構CMP装置

【問題点】
CMPパッドの片側半径部分でのディスクによるドレッシングを行うので、パッド全体形状の修正が困難（中凸、中凹）

小径ディスクによるCMPパッド全面スキャン方式に変更
CMP装置の制御プログラムと連動

【効果】
CMPパッド形状の安定修正、管理